Detalles del proyecto

Dispositivos semiconductores. Evaluación del rendimiento de componentes de procesamiento de semiconductores y equipos de inspección. Parte 1: Método de evaluación de transmitancia de película euv
Número:PNE-prEN IEC 63567-1:2025
Fuente:UNE
Comité:CTN 209/SC 47
Título del comité:CTN 209/SC 47 Dispositivos de semiconductores
Fecha de inicio de recepción de comentarios:2026-enero-15
Fecha límite de recepción comentarios:2026-febrero-14
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Objeto y campo de aplicación del proyecto:Esta parte de la norma IEC 63567-1 propone un método para medir la transmitancia de la película ultravioleta extrema (EUV) utilizada para la litografía ultravioleta extrema (EUVL) y proporciona directrices sobre las condiciones del instrumento de medición de la transmitancia que utiliza EUV con una longitud de onda corta y métodos para calcular la transmitancia EUV. El campo de aplicación de este documento se extiende a todos los tipos de membranas adheridas a la parte frontal de una máscara reflectante (o retícula reflectante) utilizada en EUVL para proteger físicamente la máscara reflectante de las partículas contaminantes generadas dentro de la cámara durante la exposición a EUV.

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