Dispositivos semiconductores

Esta parte de la norma IEC 63567-1 propone un método para medir la transmitancia de la película ultravioleta extrema (EUV) utilizada para la litografía ultravioleta extrema (EUVL) y proporciona directrices sobre las condiciones del instrumento de medición de la transmitancia que utiliza EUV con una longitud de onda corta y métodos para calcular la transmitancia EUV. El campo de aplicación de este documento se extiende a todos los tipos de membranas adheridas a la parte frontal de una máscara reflectante (o retícula reflectante) utilizada en EUVL para proteger físicamente la máscara reflectante de las partículas contaminantes generadas dentro de la cámara durante la exposición a EUV.